ساخت زدایشگر فتورزیست (Photoresist Remover) مثبت و منفی و تولید آن به صورت تجاری برای اولین بار در ایران
این ماده برای پاک کردن فتورزیست از روی ویفر استفاده می شود. در بعضی از آزمایشگاهها در حال حاضر از استون برای این منظور استفاده می شود. استون قابلیت حل کردن تمام قسمتهای فتورزیست را ندارد و باعث باقی ماندن قسمتی از آن می شود. به همین دلیل نیاز به شستشوی زیاد ویفر پس از آن وجود دارد. این مسئله تکرار پذیری فرایند را کاهش می دهد، کیفیت لایه نشانی های بعدی را ضعیف می کند و مشکلاتی مانند پوسته شدن بوجود می آورد. این ماده هردو نوع فتورزیست مثبت و منفی (SU8, KMPR, 1813,…) را میتواند پاک کند. از این ماده برای حل کردن چسبهای قوی صنعتی نیز می توان استفاده کرد.
ساخت مایع ظهور (Developer) فتورزیست مثبت و منفی و تولید آن به صورت تجاری برای اولین بار در ایران
این ماده برای ظهور انواع فتورزیست مثبت و منفی در صنایع میکروالکترونیک و MEMS استفاده می شود. در بعضی از آزمایشگاهها در حال حاضر از NaOH برای این منظور استفاده می شود. این ماده قابلیت حل کردن تمام قسمتهای فتورزیست را ندارد و باعث باقی ماندن قسمتی از آن می شود. به همین دلیل به دست آوردن رزولوشن کمتر از ۲ میکرون با آن امکان پذیر نیست. این ماده برای ظهور هردو نوع فتورزیست مثبت و منفی (SU8, KMPR, 1813,…) استفاده می شود.
اربردهای متنوع با هدف بهبود ابزارهای کاربردی می باشد. کتابهای زیادی در شصت و سه درصد گذشته، حال و آینده شناخت فراوان جامعه و متخصصان را می طلبد تا با نرم افزارها شناخت بیستری را برای طراحان رایانه ای و فرهنگ پیشرو در زبان فارسی ایجاد کرد. در این صورت می توان امید داشت که تمام و دشواری موجود در ارائه راهکارها و شرایط سخت تایپ به پایان رسد وزمان مورد نیاز شامل حروفچینی دستاوردهای اصلی و جوابگوی سوالات پیوسته اهل دنیای موجود طراحی اساسا مورد استفاده قرار گیرد.